Advances in X-Ray Analysis: Volume 33
Editat de Charles S. Barrett, John V. Gilfrich, Ting C. Huang, Ron Jenkinsen Limba Engleză Paperback – 2 iun 2012
Preț: 419.33 lei
Nou
Puncte Express: 629
Preț estimativ în valută:
80.25€ • 84.66$ • 66.88£
80.25€ • 84.66$ • 66.88£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 30 decembrie 24 - 04 ianuarie 25
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9781461399988
ISBN-10: 146139998X
Pagini: 728
Ilustrații: XX, 704 p.
Dimensiuni: 157 x 244 x 38 mm
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1990
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Locul publicării:New York, NY, United States
ISBN-10: 146139998X
Pagini: 728
Ilustrații: XX, 704 p.
Dimensiuni: 157 x 244 x 38 mm
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1990
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Locul publicării:New York, NY, United States
Public țintă
ResearchCuprins
I. Characterization of Epitaxial Thin Films and Crystal Defects by X-Ray Diffraction.- II. XRD Characterization of Polycrystalline Thin Films.- III. X-Ray Spectrometric Characterization of Thin Films.- IV. Analysis of Digital Diffraction Data Including Rietveld.- V. X-Ray Stress Analysis.- VI. Determination of Crystallite Size and Strain.- VII. Phase Identification, Structural and Quantitative Analysis by Diffraction.- VIII. X-Ray Spectrometry Data Analysis.- IX. XRF Instrumentation.- X. XRF Techniques for Hazardous Wastes and Other Applications.- Author Index.