Les systemes constitues d'interfaces metal/silicium ou metal/composes de silicium sont tres utilises dans de nombreux secteurs technologiques. Les proprietes de ces systemes dependent fortement des interactions entre les materiaux dans la zone de l'interface. Nous presentons les resultats de l'analyse par EXES et SIMS des interfaces Mo/Si, Mo/SiO2, Mo/Si3N4, NiTi/Si, NiTi/SiO2 et NiTi/Si3N4. Les composes interfaciaux determines par EXES sont localises au travers de l'interface par SIMS. Les liens entre la reactivite de ces interfaces et leur adherence sont montres pour certains de ces systemes. La necessite de l'emploi de techniques non destructives pour l'analyse physicochimique des interfaces est montree au travers d'une comparaison de l'analyse EXES avec les analyses par XPS assistee par decapage ionique et par METHR-EELS. Nous determinons les conditions de preparation permettant de minimiser la reactivite interfaciale de nos systemes."