Development of advanced endpoint detection and process control for chemical mechanical polishing (CMP) in VLSI circuit fabrication

en Limba Engleză Paperback – 31 dec 1999

Nou

Puncte Express: 379

:
48^.34€ • 52^.67$ • 40^.73£

Doresc să fiu notificat când acest titlu va fi disponibil:

Preluare comenzi: 021 569.72.76

Specificații

ISBN-13: 9783826578052
ISBN-10: 3826578058
Pagini: 123
Ilustrații: 57 Abbildungen
Greutate: 0.19 kg
Editura: Shaker Verlag