El BiFeO3 es uno de los materiales multiferroicos más prometedores, ya que puede presentar tanto ferroelectricidad como antiferromagnetismo a temperatura ambiente. Además, se sabe que el BFO tiene una banda prohibida óptica de entre 2,5 y 3,2 eV. Esto lo convierte en un material importante para futuras aplicaciones de dispositivos optoelectrónicos. En esta aproximación, se depositaron con éxito películas delgadas de BFO puro y dopado con Ni sobre sustrato FTO utilizando el sistema de pirólisis por pulverización. Se analizaron las propiedades estructurales, morfológicas y ópticas de las películas. La estructura de las películas se confirmó con el patrón XRD, y se observa que ambas muestras son policristalinas en la naturaleza y los picos de difracción observados están indexados a la estructura romboédrica con el grupo espacial R3c. El dopaje con Ni se ha encontrado para ser deseable, ya que reduce la brecha de banda óptica y por lo tanto, se puede utilizar con mucho éxito para muchos optoelectrónica, así como aplicaciones magneto-ópticas.