Les nanofils de silicium presentent un fort potentiel technologique, qui ne se revele que lorsque la taille des objets est bien maitrisee. L'obtention de ces structures par Depot Chimique en phase Vapeur est realisee par croissance catalysee a partir de precurseurs du silicium chlores ou hydrogenes. On detaille ici les effets du chlore sur la passivation des surfaces de silicium et des flancs des nanofils. Cette passivation ralentit la diffusion du catalyseur (Au) sur la surface mais ne change pas la cinetique de la croissance (axiale) du fil. On obtient ainsi une croissance reproductible et stable de nanofils notamment pour les diametres superieurs a 20 nm. L'effet du chlore est egalement visible sur les flancs des nanofils, ou les facettes evoluent plus ou moins vite selon la vitesse de croissance radiale. La passivation de la surface des nanofils permet donc la stabilisation de leur croissance et le controle de leur morphologie."