Film Deposition by Plasma Techniques: Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, cartea 10
Autor Mitsuharu Konumaen Limba Engleză Paperback – 15 dec 2011
Din seria Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics
- 18% Preț: 1007.65 lei
- 18% Preț: 942.63 lei
- 24% Preț: 833.23 lei
- 15% Preț: 641.20 lei
- 24% Preț: 810.75 lei
- 18% Preț: 786.04 lei
- 18% Preț: 793.94 lei
- 15% Preț: 649.54 lei
- 18% Preț: 1023.11 lei
- 18% Preț: 1006.87 lei
- 18% Preț: 1117.03 lei
- 15% Preț: 642.36 lei
- 18% Preț: 998.82 lei
- 18% Preț: 781.77 lei
- Preț: 382.75 lei
- 15% Preț: 650.37 lei
- 18% Preț: 792.03 lei
- 24% Preț: 975.64 lei
- 24% Preț: 790.66 lei
- 18% Preț: 945.79 lei
- 18% Preț: 999.76 lei
- 18% Preț: 883.90 lei
- 18% Preț: 784.92 lei
- 18% Preț: 1006.06 lei
- 18% Preț: 882.19 lei
- 18% Preț: 955.88 lei
- 18% Preț: 748.77 lei
- 18% Preț: 1015.23 lei
- 15% Preț: 582.12 lei
- Preț: 390.25 lei
- Preț: 389.49 lei
- 18% Preț: 945.79 lei
- Preț: 384.48 lei
Preț: 384.86 lei
Nou
Puncte Express: 577
Preț estimativ în valută:
73.65€ • 76.43$ • 61.56£
73.65€ • 76.43$ • 61.56£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 15-29 martie
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9783642845130
ISBN-10: 3642845134
Pagini: 240
Ilustrații: X, 224 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 13 mm
Greutate: 0.34 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1992
Editura: Springer Berlin, Heidelberg
Colecția Springer
Seria Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
ISBN-10: 3642845134
Pagini: 240
Ilustrații: X, 224 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 13 mm
Greutate: 0.34 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1992
Editura: Springer Berlin, Heidelberg
Colecția Springer
Seria Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
Public țintă
ResearchCuprins
1. The Plasma State.- 1.1 Characterization of Plasma.- 1.2 Classification of Plasma.- 2. Reactions in Plasmas.- 2.1 Collision Phenomena.- 2.2 Excitation and Ionization.- 2.3 Recombination.- 2.4 Ion-Molecule Reactions and Reactions Involving Negative Ions.- 2.5 Transport Phenomena.- 3. Generation of Cold Plasma.- 3.1 Electrical Breakdown and Starting Voltage.- 3.2 Glow Discharge.- 3.3 High-Frequency Discharge.- 3.4 Microwave Discharge.- 4. Plasma Diagnostics.- 4.1 Optical Spectroscopy.- 4.2 Probes.- 4.3 Particle Measurements.- 4.4 Others.- 5. Cold Plasma and Thin Film Formation.- 5.1 Interactions of Cold Plasma with Solid Surfaces.- 5.2 Application of Cold Plasma to Thin Film Deposition.- 6. Physical Vapor Deposition Under Plasma Conditions.- 6.1 Sputter Deposition.- 6.2 Ion Plating.- 7. Chemical Vapor Deposition Under Plasma Conditions.- 7.1 Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition.- 7.2 Plasma Polymerization.- 7.3 Other Techniques.- 8. Surface Modification by Cold Plasma.- 8.1 Surface Treatment for Metals and Semiconductors.- 8.2 Modification of Polymer Surfaces.- References.- Further Reading.