Models and Simulation of Deposition Processes with CVD Apparatus
Autor Jurgen Ernst Geiseren Limba Engleză Hardback – 13 dec 2009
Preț: 642.66 lei
Preț vechi: 885.47 lei
-27% Nou
Puncte Express: 964
Preț estimativ în valută:
123.03€ • 134.02$ • 103.21£
123.03€ • 134.02$ • 103.21£
Carte disponibilă
Livrare economică 28 noiembrie-12 decembrie
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9781606923252
ISBN-10: 1606923250
Pagini: 140
Ilustrații: tables & charts
Dimensiuni: 184 x 264 x 16 mm
Greutate: 0.5 kg
Ediția:New.
Editura: Nova Science Publishers Inc
ISBN-10: 1606923250
Pagini: 140
Ilustrații: tables & charts
Dimensiuni: 184 x 264 x 16 mm
Greutate: 0.5 kg
Ediția:New.
Editura: Nova Science Publishers Inc
Cuprins
Preface; Introduction; Modeling of a Plasma Reactor with CVD-Process; Discretisation Methods; Solver Methods; Decomposition Methods; Numerical Results; Outlook; Index.