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Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia: Munich Intellectual Property Law Center, cartea 26

Autor Nishantha Sampath Punchi Hewage
en Limba Engleză Paperback – 16 apr 2015
Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch weitgehend unerforschte Option, um einen Anreiz für Innovationen von KMU zu schaffen.Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.
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Din seria Munich Intellectual Property Law Center

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Specificații

ISBN-13: 9783848718856
ISBN-10: 3848718855
Pagini: 331
Dimensiuni: 154 x 228 x 25 mm
Greutate: 0.48 kg
Ediția:1. Auflage.
Editura: Nomos Verlagsgesellschaft
Seria Munich Intellectual Property Law Center