Les films de ZrO2 pur sont deposes par MOCVD en variant de nombreux parametres du processus. L'influence des conditions de depot sur l'evolution de la microstructure a ete etudiee et clarifiee. Par des analyses approfondies des resultats experimentaux, trois mecanismes typiques de croissance de depot de ZrO2 ont ete proposees. Les contraintes de croissance de compression sont en relation directe avec la diffusion atomique et la quantite d'especes piegees dans les films. La formation de la texture cristallographique est complexe et deux types de textures ont ete analysees dans la phase tetragonale: la texture de fibre {110}t est contribuee par l'effet superplastique des nano-cristallites de ZrO2 et par la contrainte de croissance de compression; tandis que la morphologie en facette est due a la croissance concurrentielle de differents plans cristallographiques. La stabilisation de la phase tetragonale de ZrO2 a ete analysee et discutee. En plus de la taille critique des cristallites, la stabilisation de la phase tetragonale est favorisee par deux autres mecanismes: la grande quantite des defauts cristallins et la morphologie des cristallites."