Sputtering by Particle Bombardment II: Sputtering of Alloys and Compounds, Electron and Neutron Sputtering, Surface Topography: Topics in Applied Physics, cartea 52
Editat de R. Behrischen Limba Engleză Paperback – 23 aug 2014
Din seria Topics in Applied Physics
- Preț: 435.47 lei
- 18% Preț: 1400.06 lei
- Preț: 434.75 lei
- 18% Preț: 1558.20 lei
- 18% Preț: 783.20 lei
- 18% Preț: 730.65 lei
- Preț: 386.00 lei
- Preț: 387.96 lei
- 18% Preț: 1233.06 lei
- 18% Preț: 1224.06 lei
- 18% Preț: 1386.30 lei
- 18% Preț: 2101.95 lei
- 18% Preț: 1221.38 lei
- 18% Preț: 2096.91 lei
- 18% Preț: 955.88 lei
- 18% Preț: 1227.21 lei
- 18% Preț: 1230.03 lei
- 18% Preț: 1386.92 lei
- Preț: 392.60 lei
- 18% Preț: 1830.65 lei
- 18% Preț: 1249.45 lei
- 18% Preț: 1836.63 lei
- 24% Preț: 1178.23 lei
- 18% Preț: 964.71 lei
- 18% Preț: 943.57 lei
- 18% Preț: 949.10 lei
- 18% Preț: 1217.58 lei
- 18% Preț: 959.19 lei
- 18% Preț: 943.43 lei
- Preț: 391.61 lei
- 18% Preț: 1125.40 lei
Preț: 393.74 lei
Nou
Puncte Express: 591
Preț estimativ în valută:
75.36€ • 78.46$ • 63.68£
75.36€ • 78.46$ • 63.68£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 10-24 martie
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9783662311691
ISBN-10: 3662311690
Pagini: 412
Ilustrații: XIII, 394 p.
Dimensiuni: 152 x 229 x 22 mm
Greutate: 0.55 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1983
Editura: Springer Berlin, Heidelberg
Colecția Springer
Seria Topics in Applied Physics
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
ISBN-10: 3662311690
Pagini: 412
Ilustrații: XIII, 394 p.
Dimensiuni: 152 x 229 x 22 mm
Greutate: 0.55 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1983
Editura: Springer Berlin, Heidelberg
Colecția Springer
Seria Topics in Applied Physics
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
Public țintă
ResearchCuprins
and overview.- Sputtering of multicomponent materials.- Chemical sputtering.- Sputtering by electrons and photons.- Sputtering of solids with neutrons.- Heavy ion sputtering induced surface topography development.- Development of surface topography due to gas ion implantation.