Sputtering by Particle Bombardment II: Sputtering of Alloys and Compounds, Electron and Neutron Sputtering, Surface Topography: Topics in Applied Physics, cartea 52
Editat de R. Behrischen Limba Engleză Paperback – 23 aug 2014
Din seria Topics in Applied Physics
- Preț: 426.71 lei
- 18% Preț: 1371.64 lei
- Preț: 434.75 lei
- 18% Preț: 1526.56 lei
- 18% Preț: 767.34 lei
- 18% Preț: 714.29 lei
- Preț: 378.26 lei
- Preț: 380.17 lei
- 18% Preț: 1208.05 lei
- 18% Preț: 1199.22 lei
- 18% Preț: 1358.19 lei
- 18% Preț: 2059.25 lei
- 18% Preț: 1196.59 lei
- 18% Preț: 2054.31 lei
- 18% Preț: 936.51 lei
- 18% Preț: 1202.31 lei
- 18% Preț: 1205.09 lei
- 18% Preț: 1358.78 lei
- Preț: 384.70 lei
- 18% Preț: 1793.47 lei
- 18% Preț: 1224.10 lei
- 18% Preț: 1799.33 lei
- 24% Preț: 1178.23 lei
- 18% Preț: 945.17 lei
- 18% Preț: 924.45 lei
- 18% Preț: 929.86 lei
- 18% Preț: 1192.88 lei
- 18% Preț: 939.74 lei
- 18% Preț: 924.30 lei
- Preț: 383.74 lei
- 18% Preț: 1102.58 lei
Preț: 385.81 lei
Nou
Puncte Express: 579
Preț estimativ în valută:
73.86€ • 76.77$ • 61.24£
73.86€ • 76.77$ • 61.24£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 05-19 februarie 25
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9783662311691
ISBN-10: 3662311690
Pagini: 412
Ilustrații: XIII, 394 p.
Dimensiuni: 152 x 229 x 22 mm
Greutate: 0.55 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1983
Editura: Springer Berlin, Heidelberg
Colecția Springer
Seria Topics in Applied Physics
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
ISBN-10: 3662311690
Pagini: 412
Ilustrații: XIII, 394 p.
Dimensiuni: 152 x 229 x 22 mm
Greutate: 0.55 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1983
Editura: Springer Berlin, Heidelberg
Colecția Springer
Seria Topics in Applied Physics
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
Public țintă
ResearchCuprins
and overview.- Sputtering of multicomponent materials.- Chemical sputtering.- Sputtering by electrons and photons.- Sputtering of solids with neutrons.- Heavy ion sputtering induced surface topography development.- Development of surface topography due to gas ion implantation.