Ce pr sent travail a t consacr l' tude des couches d'SnO2 pur et dop l'Al. Nous avons focalis notre tude sur la d termination des propri t s pouvant avoir une influence sur l'am lioration de la qualit du mat riau dans le but de son utilisation dans le domaine optique, lectrique et/ou galement opto lectronique. La m thode de pr paration est la m thode Sol-gel utilisant le processus dip-coating. Les couches obtenues ont une paisseur d'environ 350 nm d pos es sur du verre.