Nanotechnologie und Nanoprozesse: Einführung, Bewertung
Editat de Wolfgang Fahrnerde Limba Germană Paperback – 28 oct 2012
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Specificații
ISBN-13: 9783642629105
ISBN-10: 3642629105
Pagini: 312
Dimensiuni: 155 x 235 x 20 mm
Greutate: 0.44 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 2003
Editura: Springer
Colecția Springer
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
ISBN-10: 3642629105
Pagini: 312
Dimensiuni: 155 x 235 x 20 mm
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Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 2003
Editura: Springer
Colecția Springer
Locul publicării:Berlin, Heidelberg, Germany
Public țintă
ResearchDescriere
Eine
kompakt
aufbereitete,
didaktische
Zusammenstellung
der
Nanotechnologie
auf
ihrem
aktuellen
Stand
findet
der
Student
oder
praktisch
tätige
Ingenieur
im
vorliegenden
Buch.
Nach
einem
kurzen
Abriss
über
die
historische
Entwicklung
beschreibt
das
Werk
die
Verfahren
zur
Herstellung
und
Charakterisierung
von
wenige
Nanometer
großen
Strukturen,
leitet
über
zu
deren
(elektrischen)
Anwendungen
und
den
physikalischen
Messmethoden
zur
Bestimmung
der
Eigenschaften
von
Nanodefekten,
-schichten
und
-partikeln
und
erläutert
schließlich
alle
wichtigen
Präparationstechniken,
die
heute
in
der
Nanotechnologie
zur
Verfügung
stehen.
Auf
der
Grundlage
von
gesicherten
Fakten
wird
dabei
eine
Bewertung
der
Nanotechnologie,
eine
Abschätzung
ihrer
weiteren
Entwicklung
und
ein
Ausblick
auf
ihre
Zukunftsaussichten
gegeben.
Cuprins
1
Historische
Entwicklung.-
1.1
Miniaturisierung
elektrischer
und
elektronischer
Bauelemente.-
1.2
Das
Moore’sche
Gesetz
und
die
SIA-Straßenkarte
(„Roadmap“).-
2
Quantenmechanische
Aspekte.-
2.1
Allgemeines
W.
R.
Fahrner.-
2.2
Simulation
von
Molekülclustereigenschaften
A.
Ulyashin.-
2.3
Bildung
der
Energielücke
A.
Ulyashin.-
2.4
Vorüberlegungen
zur
Lithographie
W.
R.
Fahrner.-
2.5
Begrenzungseffekte
W.
R.
Fahrner.-
2.5.1
Diskretisierung
von
Energieniveaus.-
2.5.2
Tunnelströme.-
2.6
Bewertung
und
Zukunftsaussichten
W.
R.
Fahrner.-
3
Nanodefekte.-
3.1
Erzeugung
und
Formen
von
Nanodefekten
in
Kristallen.-
3.2
Charakterisierung
von
Nanodefekten
in
Kristallen.-
3.3
Anwendungen
von
Nanodefekten
in
Kristallen.-
3.3.1
Lebensdauereinstellung.-
3.3.2
Bildung
thermischer
Donatoren.-
3.3.3
Smart
und
soft
cut.-
3.3.4
Lichtemittierende
Dioden
(LEDs).-
3.4
Kernspur-Nanodefekte.-
3.4.1
Erzeugung
von
Nanodefekten
mit
Kernspuren.-
3.4.2
Anwendungen
von
Kernspuren
für
Nanobauelemente.-
3.5
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
4
Nanoschichten.-
4.1
Herstellung
von
Nanoschichten.-
4.1.1
Physikalische
Abscheidung
aus
der
Gasphase.-
4.1.2
Chemische
Abscheidung
aus
der
Gasphase
(chemical
vapor
deposition,
CVD).-
4.1.3
Epitaxie.-
4.1.4
Ionenimplantation.-
4.1.5
Bildung
von
Siliziumoxid.-
4.2
Charakterisierung
von
Nanoschichten.-
4.2.1
Dicke,
Oberflächenrauigkeit.-
4.2.2
Kristallinität.-
4.2.3
Chemische
Zusammensetzung.-
4.2.4
Leitfähigkeit.-
4.2.5
Optische
Eigenschaften.-
4.3
Anwendungen
von
Nanoschichten.-
4.4
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
5
Nanopartikel.-
5.1
Herstellung
von
Nanopartikeln.-
5.1.1
Mahlen
mit
Eisenkugeln.-
5.1.2
Gaskondensation.-
5.1.3
Laserabtrag.-
5.1.4
Thermische
und
Ultraschallzersetzung.-
5.1.5
Reduktionsmethoden.-
5.1.6
Selbst-Einrichtung.-
5.1.7
Niederdruck-,
Niedertemperaturplasma.-
5.1.8
Thermisches
Hochgeschwindigkeitsspritzen
von
Sauerstoff/Pulver/Treibmittel.-
5.1.9
Atomoptik.-
5.1.10
Sol-Gele.-
5.1.11
Präzipitation
von
Quantenpunkten
(Quantum
dots).-
5.1.12
Andere
Verfahren.-
5.2
Charakterisierung
von
Nanopartikeln.-
5.2.1
Optische
Messungen.-
5.2.2
Magnetische
Messungen.-
5.2.3
Elektrische
Messungen.-
5.3
Anwendungen
von
Nanopartikeln.-
5.4
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
6
Ausgewählte
nanokristalline
Festkörper.-
6.1
Nanokristallines
Silizium.-
6.1.1
Herstellung
von
nanokristallinem
Silizium.-
6.1.2
Charakterisierung
von
nanokristallinem
Silizium.-
6.1.3
Anwendungen
von
nanokristallinem
Silizium.-
6.1.4
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
6.2
Zeolithe
und
Nanocluster
in
Zeolithwirtsgittern
R.Job.-
6.2.1
Vorbemerkungen.-
6.2.2
Herstellung
und
Charakterisierung
von
Zeolithen.-
6.2.3
Nanocluster
in
Zeolithwirtsgittern.-
6.2.4
Anwendung
von
Zeolithen
und
Nanoclustern
in
Zeolithwirtsgittern.-
6.2.5
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
7
Nanostrukturierung.-
7.1
Nanopolitur
von
Diamant
W.
R.
Fahrner.-
7.1.1
Verfahren
der
Nanopolitur.-
7.1.2
Charakterisierung
der
Nanopolitur.-
7.1.3
Anwendungen,
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
7.2
Ätzung
von
Nanostrukturen
U.
Hilleringmann.-
7.2.1
Stand
der
Technik.-
7.2.2
Fortschrittliche
Ätzverfahren.-
7.2.3
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
7.3
Lithographieverfahren
U.
Hilleringmann.-
7.3.1
Stand
der
Technik.-
7.3.2
Optische
Lithographie.-
7.3.3
Perspektiven
für
die
optische
Lithographie.-
7.3.4
Elektronenstrahllithographie.-
7.3.5
Ionenstrahllithographie.-
7.3.6
Röntgen-
und
Synchrotronlithographie.-
7.3.7
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
7.4
Fokussierte
Ionenstrahlen
A.
Wieck.-
7.4.1
Prinzip
und
Motivation.-
7.4.2
Apparative
Details.-
7.4.3
Theorie.-
7.4.4
Anwendungen.-
7.4.5
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
7.5
Nanoimprinting
H.
Scheer.-
7.5.1
Was
ist
Nanoimprinting?.-
7.5.2
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
7.6
Atomkraftmikroskopie
W.
R.
Fahrner.-
7.6.1
Beschreibung
des
Verfahrens
und
Ergebnisse.-
7.6.2
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
7.7
Nahfeldoptik
W.
R.
Fahrner.-
7.7.1
Beschreibung
des
Verfahrens
und
Ergebnisse.-
7.7.2
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
8
Erweiterung
konventioneller
Bauelemente
durch
Nanotechniken.-
8.1
MOS-Transistoren
U.
Hilleringmann
J.
Horstmann.-
8.1.1
Struktur
und
Technologie.-
8.1.2
Elektrische
Eigenschaften
von
Sub-100-nm-MOS-Transistoren.-
8.1.3
Grenzen
der
minimal
einsetzbaren
Kanallänge.-
8.1.4
Tieftemperaturverhalten.-
8.1.5
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
8.2
Bipolartransistoren
U.
Hilleringmann.-
8.2.1
Struktur
und
Technologie.-
8.2.2
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
9
Auf
Nanostrukturen
beruhende
innovative
elektronische
Bauelemente.-
9.1
Diamanttransistoren
W.
R.
Fahrner.-
9.1.1
Auswahl
des
Grundmaterials.-
9.1.2
Herstellung
und
Kennlinien
von
Sub-?m-Diamant-Transistoren.-
9.1.3
Bewertung
und
Zukunftsaussichten.-
9.2
Resonante
Tunneldioden
H.
C.
Neitzert.-
9.2.1
Funktionsprinzip
und
Technologie.-
9.2.2
Anwendungen
in
der
Hochfrequenz-
und
digitalen
Schaltungstechnik
und
Vergleich
mit
konkurrierenden
Bauelementen.-
9.3
Quantum-Cascade-Laser
H.
C.
Neitzert.-
9.3.1
Funktionsprinzip
und
Struktur.-
9.3.2
Anwendungen
von
Quantum-Cascade-Lasern
in
der
Sensorik
und
ultraschnellen
Datenübertragung.-
9.4
Einzelelektron-Transistoren
H.
C.
Neitzert.-
9.4.1
Funktionsprinzip.-
9.4.2
Technologie.-
9.4.3
Anwendungen
des
Einzelelektron-Transistors.-
9.5
Kohlenstoffnanoröhren-Bauelemente.-
9.5.1
Struktur
und
Herstellung.-
9.5.2
Kohlenstoffnanoröhren-Transistoren.-
Literatur.-
Register.
Textul de pe ultima copertă
Eine
kompakt
aufbereitete,
didaktische
Zusammenstellung
der
Nanotechnologie
auf
ihrem
aktuellen
Stand
findet
der
Student
oder
praktisch
tätige
Ingenieur
im
vorliegenden
Buch.
Nach
einem
kurzen
Abriss
über
die
historische
Entwicklung
beschreibt
das
Werk
die
Verfahren
zur
Herstellung
und
Charakterisierung
von
wenige
Nanometer
großen
Strukturen,
leitet
über
zu
deren
(elektrischen)
Anwendungen
und
den
physikalischen
Messmethoden
zur
Bestimmung
der
Eigenschaften
von
Nanodefekten,
-schichten
und
-partikeln
und
erläutert
schließlich
alle
wichtigen
Präparationstechniken,
die
heute
in
der
Nanotechnologie
zur
Verfügung
stehen.
Auf
der
Grundlage
von
gesicherten
Fakten
wird
dabei
eine
Bewertung
der
Nanotechnologie,
eine
Abschätzung
ihrer
weiteren
Entwicklung
und
ein
Ausblick
auf
ihre
Zukunftsaussichten
gegeben.
Caracteristici
Umfassende
Darstellung
der
Nanotechnologie
auf
aktuellem
Stand
Zusammenfassung der Herstellungs- und Charakterisierungsverfahren von wenige Nanometer großen Strukturen und ihren elektrischen Anwendungen
Erste didaktisch aufbereitete Zusammenstellung im deutschen Sprachraum
Zusammenfassung der Herstellungs- und Charakterisierungsverfahren von wenige Nanometer großen Strukturen und ihren elektrischen Anwendungen
Erste didaktisch aufbereitete Zusammenstellung im deutschen Sprachraum
Notă biografică
Professor Dr. Wolfgang Fahrner, FernUniversität Hagen: Wissenschaftlicher Angestellter der Fraunhofergesellschaft, Freiburg, und Hahn-Meitner-Institut Berlin, Promotion, zwei Sabbaticals in IBM East Fishill, Habilitation und Professur an der TU Berlin, Professur an der Fernuniversität Hagen, Direktor an der School of Photovoltaics, Nanchang (PR China). Schwerpunkte MOS, Ionenimplantation, Strahlenhärte elektronischer Bauelemente, Diamanttechnologie, Solarzellen.