Cantitate/Preț
Produs

Plasma Etching: Fundamentals and Applications: Series on Semiconductor Science and Technology, cartea 7

Autor M. Sugawara
en Limba Engleză Hardback – 27 mai 1998
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Citește tot Restrânge

Din seria Series on Semiconductor Science and Technology

Preț: 113125 lei

Preț vechi: 165357 lei
-32% Nou

Puncte Express: 1697

Preț estimativ în valută:
21654 23282$ 18052£

Carte tipărită la comandă

Livrare economică 09-14 decembrie

Preluare comenzi: 021 569.72.76

Specificații

ISBN-13: 9780198562870
ISBN-10: 019856287X
Pagini: 356
Ilustrații: 2 colour plates, 5 halftones, numerous line figures
Dimensiuni: 163 x 242 x 23 mm
Greutate: 0.68 kg
Editura: OUP OXFORD
Colecția OUP Oxford
Seria Series on Semiconductor Science and Technology

Locul publicării:Oxford, United Kingdom

Notă biografică

Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430