Large Scale Integrated Circuits Technology: State of the Art and Prospects: Proceedings of the NATO Advanced Study Institute on “Large Scale Integrated Circuits Technology: State of the Art and Prospects”, Erice, Italy, July 15–27, 1981: NATO Science Series E:, cartea 55
Editat de Leo Esaki, G. Soncinien Limba Engleză Paperback – 14 oct 2011
Din seria NATO Science Series E:
- Preț: 1500.36 lei
- Preț: 1500.14 lei
- Preț: 912.70 lei
- 24% Preț: 1570.65 lei
- 20% Preț: 346.24 lei
- Preț: 397.76 lei
- Preț: 386.81 lei
- Preț: 424.33 lei
- 18% Preț: 1224.18 lei
- 18% Preț: 1836.63 lei
- 18% Preț: 1229.28 lei
- Preț: 381.00 lei
- Preț: 409.30 lei
- 18% Preț: 1841.36 lei
- 5% Preț: 367.28 lei
- Preț: 407.19 lei
- 18% Preț: 1838.38 lei
- Preț: 420.28 lei
- Preț: 399.29 lei
- Preț: 398.74 lei
- 18% Preț: 3026.13 lei
- Preț: 388.90 lei
- 5% Preț: 391.06 lei
- 18% Preț: 1228.62 lei
- 18% Preț: 1229.73 lei
- 18% Preț: 1234.46 lei
- 5% Preț: 3532.05 lei
- 18% Preț: 1840.11 lei
- 5% Preț: 378.80 lei
- 18% Preț: 1227.84 lei
- Preț: 392.75 lei
- Preț: 395.63 lei
- 18% Preț: 2489.30 lei
- 5% Preț: 1429.27 lei
- Preț: 396.02 lei
- 5% Preț: 2142.61 lei
- 18% Preț: 3049.16 lei
Preț: 414.91 lei
Nou
Puncte Express: 622
Preț estimativ în valută:
79.41€ • 81.84$ • 67.04£
79.41€ • 81.84$ • 67.04£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 04-18 martie
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9789400976474
ISBN-10: 940097647X
Pagini: 760
Ilustrații: 784 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 40 mm
Greutate: 1.05 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1982
Editura: SPRINGER NETHERLANDS
Colecția Springer
Seria NATO Science Series E:
Locul publicării:Dordrecht, Netherlands
ISBN-10: 940097647X
Pagini: 760
Ilustrații: 784 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 40 mm
Greutate: 1.05 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1982
Editura: SPRINGER NETHERLANDS
Colecția Springer
Seria NATO Science Series E:
Locul publicării:Dordrecht, Netherlands
Public țintă
ResearchCuprins
I. Overview.- Semiconductor Devices and the Role of Physics in Their Development.- LSI: Prospects and Problems.- II. Silicon Technology.- Silicon Crystals for Large Scale Integrated Circuits.- Structural Techniques for Bulk Defects Characterization.- III. Processing.- Planar Processing: Silicon Oxidation.- Planar Processing: Diffusion.- Ion Implantation.- Silicon Epitaxy.- Computer Simulation of Complete IC Fabrication Process.- Beam Processing Techniques Applied to Crystal Silicon Substrates.- Lithography Systems for VLSI.- IV. Bipolar Devices.- Bipolar Linear Integrated Circuits.- Bipolar Digital Circuits.- Advanced Bipolar Devices and Related Problems.- V. Mos Devices.- MOS Technologies and Devices for LSI.- Silicon on Insulator Integrated Circuits.- Advanced Silicon MOS Devices and Related Problems.- VI. Reliability.- Semiconductor Component Accelerated Testing and Data Analysis.- Basic Integrated Circuit Failure Mechanisms.- VII. Future Trends.- Miniaturization Limits for MOS Technology.- Physics of Submicron Devices.- The Role of GaAs in High Speed Integrated Circuits.- Josephson Integrated Circuits.