Plasma Processes for Semiconductor Fabrication: Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering, cartea 8
Autor W. N. G. Hitchonen Limba Engleză Paperback – 28 sep 2005
Toate formatele și edițiile | Preț | Express |
---|---|---|
Paperback (1) | 494.91 lei 6-8 săpt. | |
Cambridge University Press – 28 sep 2005 | 494.91 lei 6-8 săpt. | |
Hardback (1) | 842.08 lei 6-8 săpt. | |
Cambridge University Press – 27 ian 1999 | 842.08 lei 6-8 săpt. |
Preț: 494.91 lei
Preț vechi: 556.08 lei
-11% Nou
Puncte Express: 742
Preț estimativ în valută:
94.73€ • 101.86$ • 78.97£
94.73€ • 101.86$ • 78.97£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 19 decembrie 24 - 02 ianuarie 25
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9780521018005
ISBN-10: 0521018005
Pagini: 232
Ilustrații: 31 b/w illus. 2 tables 33 exercises
Dimensiuni: 178 x 254 x 14 mm
Greutate: 0.41 kg
Ediția:Revised
Editura: Cambridge University Press
Colecția Cambridge University Press
Seria Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering
Locul publicării:Cambridge, United Kingdom
ISBN-10: 0521018005
Pagini: 232
Ilustrații: 31 b/w illus. 2 tables 33 exercises
Dimensiuni: 178 x 254 x 14 mm
Greutate: 0.41 kg
Ediția:Revised
Editura: Cambridge University Press
Colecția Cambridge University Press
Seria Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering
Locul publicării:Cambridge, United Kingdom
Cuprins
1. Introduction; 2. Plasma processes and semiconductors; 3. Plasma electromagnetics and circuit models; 4. Plasma models; 5. Plasma chemistry; 6. Transport at long mean free path; 7. Evolution of the trench; 8. Physical description of the plasma; 9. Going further; 10. Glossary.
Descriere
An up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication.