Advances in X-Ray Analysis: Volume 39
Editat de John V. Gilfrich, I. Cev Noyan, Ron Jenkins, Ting C. Huang, Robert L. Snyder, Deane K. Smith, Mary Ann Zaitz, Paul K. Predeckien Limba Engleză Hardback – 31 ian 1998
Preț: 1810.77 lei
Preț vechi: 2208.26 lei
-18% Nou
Puncte Express: 2716
Preț estimativ în valută:
346.58€ • 361.22$ • 288.51£
346.58€ • 361.22$ • 288.51£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 06-20 ianuarie 25
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9780306458033
ISBN-10: 0306458039
Pagini: 908
Ilustrații: XVII, 908 p.
Dimensiuni: 178 x 254 x 49 mm
Greutate: 1.81 kg
Ediția:1998
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Locul publicării:New York, NY, United States
ISBN-10: 0306458039
Pagini: 908
Ilustrații: XVII, 908 p.
Dimensiuni: 178 x 254 x 49 mm
Greutate: 1.81 kg
Ediția:1998
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Locul publicării:New York, NY, United States
Public țintă
ResearchCuprins
Historical Reviews of X-Ray Science and Technology.- Conditioning of X-Ray Beams and Other Developments in X-Ray Instrumentation.- Stress and Strain Determination by Diffraction Methods, Peak Broadending Analysis.- Characterization of Polymers, Anorphous Materials and Organics by X-Ray Neutron Scattering.- Precision, Accuracy in Xrd, Phase Analysis.- Characterization of Thin Films by X-Ray Diffraction and Fluorescence.- Other Applications of X-Ray Diffractions Including High-Temperature and Non-Ambient.- Total Reflection Xrf and Trace Analysis.- Quantitative XRF Data Interpretation and Other Xrf Applications.- Author Index.