Rapid Thermal Processing of Semiconductors: Microdevices
Autor Victor E. Borisenko, Peter J. Heskethen Limba Engleză Paperback – 20 iun 2013
Toate formatele și edițiile | Preț | Express |
---|---|---|
Paperback (1) | 1384.26 lei 6-8 săpt. | |
Springer Us – 20 iun 2013 | 1384.26 lei 6-8 săpt. | |
Hardback (1) | 1395.94 lei 6-8 săpt. | |
Springer Us – 31 mai 1997 | 1395.94 lei 6-8 săpt. |
Din seria Microdevices
- 18% Preț: 951.91 lei
- 18% Preț: 953.35 lei
- 18% Preț: 1250.88 lei
- 18% Preț: 958.38 lei
- 18% Preț: 1395.94 lei
- 20% Preț: 572.40 lei
- 18% Preț: 1242.21 lei
- 18% Preț: 1240.30 lei
- 18% Preț: 966.15 lei
- 18% Preț: 955.08 lei
- Preț: 401.24 lei
- 15% Preț: 639.41 lei
- 15% Preț: 651.67 lei
- 18% Preț: 1123.98 lei
- Preț: 395.25 lei
- 18% Preț: 981.58 lei
- 18% Preț: 966.59 lei
- 18% Preț: 954.93 lei
Preț: 1384.26 lei
Preț vechi: 1688.12 lei
-18% Nou
Puncte Express: 2076
Preț estimativ în valută:
264.91€ • 276.22$ • 220.16£
264.91€ • 276.22$ • 220.16£
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 20 martie-03 aprilie
Preluare comenzi: 021 569.72.76
Specificații
ISBN-13: 9781489918062
ISBN-10: 148991806X
Pagini: 384
Ilustrații: XXII, 358 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 20 mm
Greutate: 0.54 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1997
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Seria Microdevices
Locul publicării:New York, NY, United States
ISBN-10: 148991806X
Pagini: 384
Ilustrații: XXII, 358 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 20 mm
Greutate: 0.54 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1997
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Seria Microdevices
Locul publicării:New York, NY, United States
Public țintă
ResearchCuprins
1. Transient Heating of Semiconductors by Radiation.- 2. Recrystallization of Implanted Layers and Impurity Behavior in Silicon Crystals.- 3. Crystallization, Impurity Diffusion, and Segregation in Polycrystalline Silicon.- 4. Component Evaporation, Defect Annealing, and Impurity Diffusion in the III–V Semiconductors.- 5. Diffusion Synthesis of Silicides in Thin-Film Metal—Silicon Structures.- 6. Rapid Thermal Oxidation and Nitridation.- 7. Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition.- References.